PVD内镀蒸发镀膜机可以镀玻璃、陶瓷、塑胶等瓶状、罐状、球状的内壁。它是由真空室体、抽气系统、电控系统及蒸发等系统组成。多个被镀工件扣在装夹盘上，关上大门，纳米喷镀技术，快速抽气，在真空状态下，电阻加热蒸发金属膜料，蒸气凝结在工件内表面形成所需要的薄膜。灯罩内镀设备-蒸发镀膜机灯罩-杯具真空PVD内镀机：蒸发镀膜机是专为饰品、器件内镀膜研制。
技术参数：
一、 设备采用立式结构，真空室内腔尺寸F600X600、F600X800、F800X800、F800X1000、F1000X1000、F1000X1200（高）
二、工作室配备蒸发机构，3层至5层平放玻璃杯。
三、 每次可镀口径为F30至F200mm的玻璃杯或玻璃球，例如口径为F50mm玻璃杯每次可镀约60~120只。
四、电控系统配备半自动/手动双控功能，配全自动测量真空仪表，采用全自动蒸发控制。
五、配真空机组：
K系列扩散泵 二台；
2X系列滑阀泵一台；
2X-4系列旋片泵二台。
六、抽真空周期：空载从大气抽至5x10 ˉ2帕小于6分钟。
备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做。
真空蒸发镀膜机加工
真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，纳米喷镀，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。
当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ 为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L 的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有
N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)
在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为
λ = 6.65×10-1/pcm (2)
由上式计算可知，在室温下，p=10-2 Pa 时，λ=66.5 cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5 cm。
磁控溅射镀膜机
中频磁控镀膜机
屏蔽膜电镀设备
中频溅射镀膜机
磁控真空镀膜机
真空蒸镀：
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸发同时也分电子束蒸发和电阻蒸发、感应蒸发等。
溅射镀膜：
是真空条件下，在阴极接上高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极靶材，纳米喷镀加工，使其射出膜料粒子，并沉积到基片上形成膜层。
离子镀膜：
离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中，纳米喷镀机，基片始终受到高能粒子的轰击，膜层强度和结合力非常强。离子镀膜镀制高精密的膜层时，可以加过滤掉大颗粒的离子，这样能达到高结构，高致密性的膜层。
纳米喷镀-鼎益科技，鼎益真空-纳米喷镀机由肇庆市鼎益科技有限公司提供。肇庆市鼎益科技有限公司是广东 肇庆 ,行业设备的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在鼎益科技，鼎益真空领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创鼎益科技，鼎益真空更加美好的未来。