纳米喷镀 鼎益科技，鼎益真空 纳米喷镀机

PVD内镀蒸发镀膜机可以镀玻璃、陶瓷、塑胶等瓶状、罐状、球状的内壁。它是由真空室体、抽气系统、电控系统及蒸发等系统组成。多个被镀工件扣在装夹盘上，关上大门，纳米喷镀技术，快速抽气，在真空状态下，电阻加热蒸发金属膜料，蒸气凝结在工件内表面形成所需要的薄膜。灯罩内镀设备-蒸发镀膜机灯罩-杯具真空PVD内镀机：蒸发镀膜机是专为饰品、器件内镀膜研制。

技术参数：

一、 设备采用立式结构，真空室内腔尺寸F600X600、F600X800、F800X800、F800X1000、F1000X1000、F1000X1200（高）

二、工作室配备蒸发机构，3层至5层平放玻璃杯。

三、 每次可镀口径为F30至F200mm的玻璃杯或玻璃球，例如口径为F50mm玻璃杯每次可镀约60~120只。

四、电控系统配备半自动/手动双控功能，配全自动测量真空仪表，采用全自动蒸发控制。

五、配真空机组：

K系列扩散泵 二台；

2X系列滑阀泵一台；

2X-4系列旋片泵二台。

六、抽真空周期：空载从大气抽至5x10 ˉ2帕小于6分钟。

备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做。

　　 真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，纳米喷镀，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。

　　 当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ 为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L 的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有

　　N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)

　　在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为

　　λ = 6.65×10-1/pcm (2)

　　由上式计算可知，在室温下，p=10-2 Pa 时，λ=66.5 cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5 cm。

磁控溅射镀膜机

中频磁控镀膜机

屏蔽膜电镀设备

中频溅射镀膜机

磁控真空镀膜机

真空蒸镀：

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸发同时也分电子束蒸发和电阻蒸发、感应蒸发等。

溅射镀膜：

是真空条件下，在阴极接上高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极靶材，纳米喷镀加工，使其射出膜料粒子，并沉积到基片上形成膜层。

离子镀膜：

离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中，纳米喷镀机，基片始终受到高能粒子的轰击，膜层强度和结合力非常强。离子镀膜镀制高精密的膜层时，可以加过滤掉大颗粒的离子，这样能达到高结构，高致密性的膜层。